Дослідження електрофізичних властивостей мідних плівок для інтегрованих мікросхем

Автор(и)

  • М.М. Прищепа Національний технічний університет України “Київський політехнічний інститут”

DOI:

https://doi.org/10.20535/RADAP.2010.43.51-59

Ключові слова:

мідні плівки, термойонне нанесення, мікроструктурні параметри

Анотація

Проведено комплексне дослідження мікроструктурних, електричних і механічних параметрів мідних плівок, отриманих термойонним нанесенням (ТЙН) на ситалові й полікорові підложки. Досліджувані параметри порівнювали з відповідними параметрами гранул вакуумплавленої міді, з якої були виготовлені досліджувані зразки. Проведені дослідження показали, що основні параметри плівок міді, виготовлених за технологією ТЙН, близькі за значеннями до масивних зразків вакуумплавленої міді.

Завантажити

Дані для завантаження поки недоступні.

Біографія автора

  • автор М.М. Прищепа, афіліація Національний технічний університет України “Київський політехнічний інститут”
    Прищепа М.М., к.т.н. доцент кафедри радіоконструювання та виробництва радіоапаратури

Завантаження

Опубліковано

2010-11-27

Номер

Розділ

Функціональна електроніка. Мікро та наноелектронна техніка

Як цитувати

«Дослідження електрофізичних властивостей мідних плівок для інтегрованих мікросхем» (2010) Вісник НТУУ "КПІ". Серія Радіотехніка, Радіоапаратобудування, (43), с. 51–59. doi:10.20535/RADAP.2010.43.51-59.

Статті цього автора (цих авторів), які найбільше читають