Дослідження електрофізичних властивостей мідних плівок для інтегрованих мікросхем

Автор(и)

  • М.М. Прищепа Національний технічний університет України “Київський політехнічний інститут”

DOI:

https://doi.org/10.20535/RADAP.2010.43.51-59

Ключові слова:

мідні плівки, термойонне нанесення, мікроструктурні параметри

Анотація

Проведено комплексне дослідження мікроструктурних, електричних і механічних параметрів мідних плівок, отриманих термойонним нанесенням (ТЙН) на ситалові й полікорові підложки. Досліджувані параметри порівнювали з відповідними параметрами гранул вакуумплавленої міді, з якої були виготовлені досліджувані зразки. Проведені дослідження показали, що основні параметри плівок міді, виготовлених за технологією ТЙН, близькі за значеннями до масивних зразків вакуумплавленої міді.

Біографія автора

  • М.М. Прищепа, Національний технічний університет України “Київський політехнічний інститут”
    Прищепа М.М., к.т.н. доцент кафедри радіоконструювання та виробництва радіоапаратури

Завантаження

Опубліковано

2010-11-27

Номер

Розділ

Функціональна електроніка. Мікро та наноелектронна техніка

Як цитувати

“Дослідження електрофізичних властивостей мідних плівок для інтегрованих мікросхем” (2010) Вісник НТУУ "КПІ". Серія Радіотехніка, Радіоапаратобудування, (43), pp. 51–59. doi:10.20535/RADAP.2010.43.51-59.